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A hybrid deposition process combining reactive magnetron sputtering and microwave plasma for the elaboration of a-SiCxNy:H
1 : Institut de Chimie de Clermont-Ferrand
(ICCF)
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Site web
CNRS : UMR6296, Université Blaise Pascal - Clermont-Ferrand II, Ecole Nationale Supérieure de Chimie de Clermont-Ferrand
24 Avenue des Landais, 63177 Aubière Cedex -
France
| Type : | : | Résumé Jeunes Chercheurs |
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